Vertiefungsschulung: Personalführung und Rehabilitation
Vertiefungsschulung: Personalführung und Rehabilitation
Seit Beginn der Aufarbeitung des sexuellen Missbrauchs innerhalb der katholischen Kirche, bemühen sich die Menschen, die hier agieren, einen sicheren Ort für Kinder und Jugendliche sowie für schutz- oder hilfebedürftige Erwachsene herzustellen.
Gleichzeitig hat die Kirche als Arbeitgeber auch die Fürsorgepflicht gegenüber beschuldigten Mitarbeitenden. Die Rehabilitation von zu Unrecht unter Verdacht geratender Menschen, stellt Institutionen und die dort Tätigen vor große Herausforderungen. Umso wichtiger ist die Verankerung von Rehabilitationsstrukturen innerhalb eines Schutzkonzeptes. Mitarbeitenden in leitender Verantwortung kommt bei dieser Aufgabe eine besondere Bedeutung zu.
Wie gehen wir, mit diesen Situationen um? Wie kann "der gute Ruf" wiederhergestellt werden? Wer ist wofür verantwortlich? Diese Fragen dürfen nicht von individuellen Personen und Entscheidungen abhängig sein, sondern müssen generell geplant und durchgeführt werden. Des Weiteren senkt ein transparentes Rehabilitationskonzept die ggf. vorhandenen Schwellen einen Verdacht zu äußern.
Um Sie bei dieser Verantwortung zu unterstützen bieten wir Ihnen diese Fortbildung an, die das notwendige Basiswissen für diese besondere Leitungsaufgabe vermittelt.
Seminarziele
Die Teilnehmenden kennen die Haltung und Vorgehensweise der katholischen Kirche zum Thema der Rehabilitation von zu Unrecht beschuldigten Mitarbeitenden. Sie sind in der Lage, die Rehabilitation vom ersten Moment einer Übergriffsmeldung mitzudenken und entsprechend zu handeln.
Zielgruppe:
Leitende Mitarbeitende
Voraussetzung:
Besuch einer BasisPlus-Schulung und des Zusatzmodul Führungskräftefortbildung.
Methoden:
Vortrag, Diskussionen
Seminardauer:
6 Zeitstunden/1 Tag
Status: Anmeldung möglich
Kursnr.: 2025VPERF2
Beginn: Di., 11.11.2025, 09:30 - 17:00 Uhr
Dauer: ganztägig
Kursort: Bischöfliches Generalvikariat Essen, Apostelsaal
Gebühr: 0,00 €
Für diesen Kurs sind keine Termine vorhanden.